二氧化硅悬浮研磨抛光液

机械/化学抛光，液态氧化硅悬浮液，PH9.5用于高纯度金属及合金、矿物、陶瓷、聚合物的最终抛光。

用法：直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。

0.04μm

500ml

机械/化学抛光，液态氧化硅悬浮液，PH10用于所有材料快速最终抛光。

用法：直接使用用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。

0.02μm

500ml

机械/化学抛光，胶状硅悬浮液，PH10     

用于高精要求产品的最终抛光。

用法：使用时按1:3加水稀释或水性润滑液

0.04μm

500ml

0.02μm

500ml